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更新日期：2024-03-18
簡要描述：
日本advance臺式燈加熱裝置MILA-5000系列MILA-5000系列可以進行高速加熱/冷卻和清潔加熱，這是紅外金像爐的功能，可以在自由的氣氛中加熱，并且緊湊且便宜，并帶有集成的溫度控制器和可調(diào)空氣室，紅外燈加熱裝置
| 品牌 | 其他品牌 |
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MILA-5000系列可以進行高速加熱/冷卻和清潔加熱，這是紅外金像爐的功能，可以在自由的氣氛中加熱，并且緊湊且便宜，并帶有集成的溫度控制器和可調(diào)空氣室，紅外燈加熱裝置，
通過USB連接可以在個人計算機上進行加熱操作，并且可以輕松地管理數(shù)據(jù)。
選擇任何氣氛，例如真空，氣體，氣流，氣氛
精確的溫度控制
桌面和緊湊型設計
您可以輕松設置溫度程序并從計算機輸入外部信號。
可以在個人計算機上顯示加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)。
鐵電薄膜的晶體退火
離子注入后的擴散退火，氧化膜形成退火
硅，復合片燒結(jié)，合金化處理
玻璃基板浸水儀
熱循環(huán)，熱沖擊，熱疲勞測試
加熱爐進行升溫脫附試驗
催化效果測試
| 模型 | MILA-5000-PF （均熱型） | MILA-5000-PN （高溫型） | MILA-5000UHV （高溫/高真空型） |
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| 溫度范圍 | 室溫?800℃ | 室溫?1200℃ | |
| 樣品尺寸 | 正方形20mm x厚度2mm | ||
| 加熱氣氛 | 在空氣中，真空中，惰性氣體中 | 在空氣，高真空，惰性氣體中 | |
| 極限真空度 | 6.5Pa（RP * 1使用，室溫空載） | 10 -4 Pa（TMP * 1使用，室溫空載） | |
* 1是可選的真空排氣裝置
* 2加熱溫度根據(jù)被加熱材料的紅外反射/吸收率，熱容量和材料而異。
